Patent knowledge. Technology expertise. Market understanding.

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プロセス解析

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TEM Image of Intel 32 nm Transistorリバースエンジニアリングを活用戴く事により、プロセス技術チームは下記のような利点が得られます。

  • 技術的な選択の誤りを回避し、莫大な額に上る投資におけるリスクを回避
  • 競合ベンチマーキングを通じて可変要素を減らし、製品およびプロセス開発コストを大幅に削減
  • より優れた製品をいち早く市場に投入し、多額の新規収益を実現

Chipworks は、もっとも競争の激しい半導体およびエレクトロニクス分野において、総合的かつ有用なリバース エンジニアリング解析を提供します。 複雑な意思決定を行う際に役に立つ情報です。

Chipworks は18年の歳月をかけて解析能力を研鑽してきました。

  • 世界的な調達経路へのアクセスと、二部門からなるデバイス入手のスペシャリスト集団
  • すべてのデバイス タイプ(MEMS、イメージ センサ、最新ノード CMOS、 BiCMOS)を剥離しダイの特徴を解析
  • 高解像度SEMおよび 走査型静電容量顕微鏡(SCM)で画像を撮影
  • 優れた TEM画像により、トランジスタやインターコネクト層を原子レベルで計測
  • エネルギー分散型X線分析(EDS) および 電子エネルギー損失分光法(EELS)による材料分析とドーピングレベル解析
  • お客様独自のニーズに対応し、既成またはカスタムの解析をお届する経験豊富なアナリスト達

 

introduction to reverse engineering

The pdf state-of-the-art in reverse engineering  is demonstrated in this whitepaper.