Patent knowledge. Technology expertise. Market understanding.

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工艺分析

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TEM Image of Intel 32 nm Transistor利用反向工程使工艺技术组能:

  • 避免错误的技术选择,从而降低可能是数十亿美元的投资风险
  • 通过对竞争产品的标杆分析来减少产品改变,从而节省数百万元的产品和工艺开发成本
  • 开发更好的产品并更快地投入市场,以赚取数百万元的收益

Chipworks公司在最具竞争力的半导体和电子领域为客户提供全面、有效的反向工程分析,提供信息帮助客户做重大决策。

这18年来,我们的分析技能得到不断的发展,其中包括:

  • 全球范围内采购产品,并有两位部件采购专员进行器件搜索
  • 拥有所有器件类型(微电子机械系统(MEMS),图像传感器(image sensors),先进工艺如CMOS,BiCMOS)以便分析其晶粒特征
  • 进行高分辨率扫描电镜(SEM)和扫描电容显微镜(SCM)的图像采集
  • 精湛的透射电镜(TEM)图像采集技术,在原子层面进行晶体管和互连层(interconnect layers)的测量
  • 运用电子色散(EDS)和电子能量损失谱(EELS)进行材料鉴定和掺杂度的分析(doping level analysis)
  • 分析师的丰富经验确保“现成的”或定制的分析都能满足客户的独特需求

introduction to reverse engineering

The pdf state-of-the-art in reverse engineering  is demonstrated in this whitepaper.